라피두스는 일본 공장에 최대 10대의 극자외선(euv) 리소그래피 기계를 배치하여 2027년부터 2나노대의 첨단 칩을 양산하는 것을 목표로 하고 있다. 라피두스의 ceo인 코이케 아츠요시(atsuyoshi koike)에 따르면1